型号：NP-E650
本清洗剂适应于太阳能方片硅的线切割后清洗，硅片研磨后的清洗。可以快速去除硅片表面残留的颗粒、有机物、部分金属离子。清洗后硅片表面干净，色泽一致，硅片表面无明显的花斑。
1. 特点
1.1. 高效：硅片表面清洗效果好，清洗时间短，提高清洗效率。
1.2. 方便：该清洗剂经过简单调整即可以适用各种清洗种清洗环境可适用于6—14槽位不等的超声波清洗设备
1.3. 安全环保：不含有毒、有害成分，对人体无伤害，残夜排放后15天可以自然降解。
2. 使用范围及参数
本品适用于适应于硅的内圆切片，线切割硅片，硅片研磨后的清洗。以及适用于其它半导体材料加工过程中颗粒以及有机污染物的清洗。
颜色：微黄色
比重：1.02-1.10
PH值：11.5-13.0
稀释比例：10-15倍水
3. 推荐工艺
3.1. 可采用超声设备进行清洗，超声频率为40KHz，清洗温度为50℃~55℃，清洗工艺可以根据现场设备进行适当调整。
3.2. 也可以采用浸泡式清洗，如抛光后把晶片浸泡在清洗剂中或得的表面质量更高，表面颗粒度更低。
4. 注意事项
4.1. 本品不能与其它清洗剂混用。
4.2. 如不慎，本品溅到衣服上，皮肤上，应用大量水冲洗。
5. 运输、存储、包装
5.1. 运输过程避免货物倒置。
5.2. 包装规格为5kg，20kg
5.3. 保质期：一年。
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