型號：NP-E650
本清洗劑適應于太陽能方片硅的線切割后清洗，硅片研磨后的清洗。可以快速去除硅片表面殘留的顆粒、有機物、部分金屬離子。清洗后硅片表面乾淨，色澤一致，硅片表面無明顯的花斑。
1. 特點
1.1. 高效：硅片表面清洗效果好，清洗時間短，提高清洗效率。
1.2. 方便：該清洗劑經過簡單調整即可以適用各種清洗種清洗環境可適用於6—14槽位不等的超聲波清洗設備
1.3. 安全環保：不含有毒、有害成分，對人體無傷害，殘夜排放后15天可以自然降解。
2. 使用範圍及參數
本品適用於適應于硅的內圓切片，線切割硅片，硅片研磨后的清洗。以及適用於其它半導體材料加工過程中顆粒以及有機污染物的清洗。
顏色：微黃色
比重：1.02-1.10
PH值：11.5-13.0
稀釋比例：10-15倍水
3. 推薦工藝
3.1. 可採用超聲設備進行清洗，超聲頻率為40KHz，清洗溫度為50℃~55℃，清洗工藝可以根據現場設備進行適當調整。
3.2. 也可以採用浸泡式清洗，如拋光后把晶片浸泡在清洗劑中或得的表面質量更高，表面顆粒度更低。
4. 注意事項
4.1. 本品不能與其它清洗劑混用。
4.2. 如不慎，本品濺到衣服上，皮膚上，應用大量水沖洗。
5. 運輸、存儲、包裝
5.1. 運輸過程避免貨物倒置。
5.2. 包裝規格為5kg，20kg
5.3. 保質期：一年。
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